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첨단 정보 전자재료 기술 동향과 시장 전망

시 중 가
300,000
판 매 가
270000
제조사
데이코산업연구소
규격
363쪽 (A4)
발간일
2011-08-16
수량

본 보고서는 아래의 신간도서로 업데이트 되었습니다.
 
정보전자 재료, 소재 시장동향과 전망 [자세히 보기]
 
정보전자 재료, 소재 시장동향과 전망
 
 
전자재료는 반도체, 자성재료 등을 비롯 저항재료, 접점재료, 유전체재료, 도전의료 등 전자기계에 사용되는 광범위한 재료. 기기의 고성능화, 소형·경량화, 고집적화 등의 요구에 대응해서 차차 신재료의 개발이 진행되고 있다.
 
최근 주목되고 있는 전자재료로서는 실리콘을 상회하는 성능을 갖는 갈륨·비소반도체, 광 IC용 재료로 유력시되고 있는 니오브산 리튬결정, 포킷형 텔리비전의 화면에 사용되는 액정 등이 있다. 또 광섬유등도 전자재료에 포함된다.
 
이중 정보전자 재료는, 소재의 전자기적 특성을 이용한 정보를 저장하거나 표시하고 전달할 수 있는 차세대 소자, 재료를 말하며 각종 첨단 산업, 즉 전자·컴퓨터 산업의 발전에 필요 불가결한 역할을 하고 있다. 대표적인 예로 실리콘 반도체 집적회로, 화합물 반도체, 각종 디스플레이 소자를 들 수 있다.
 
품목별로 보면 ArF 포토레지스트는 2006년 이후 본격적으로 사용되기 시작하여 2012년까지 연평균 39%의 높은 성장률을 보이고 있으며, 전체 시장의 60% 정도를 아태지역에서 차지하고 있으며, 다른 지역에 비해 상대적인 시장증가율과 시장규모가 큼을 알수 있다. 이는 한국, 대만, 중국, 싱가폴, 말레이시아 등 메모리 및 비메모리 반도체 파운드리 업체가 많고, 기술적으로 앞선 기업이 많아 시장규모가 큰 것으로 판단된다.
 
그리고 FPD기판유리는 미국코닝이 Overflow Downdraw 방식을 최초로 개발 생산하고 있으며, 일본의 아사히글라스는 대형화에 유리한 Float공법으로 FPD유리를 생산하고 있다. LG화학에서는 Schott사의 기술을 바탕으로 기술개량 및 우수한 생산관리 기술 을 접목하여 FPD기판유리 생산을 위해 준비 중이며, 이에 따른 표면처리기술 역시 지속적인 투자와 기술개발로 사업화를 추진중이다.
 
이에 본 연구소는 정보전자재료 개발동향과 전략을 통하여 국내 관련 산업의 종사자 및 관계자들에게 정보를 제공하고 이해를 돕고자 하였으며, 본 보고서가 정보전자재료 산업의 관계자 및 관련 사업을 계획하는 업계의 사업전략 수립과 관련기관․단체․기업의 실무담당자의 업무에 미력하나마 도움이 되기를 바란다.
 
 
 
목차
 
Ⅰ. 첨단 정보 전자재료 동향과 시장 전망
 
1. ArF급 포토레지스트 동향
1-1. 개요
1) 개념 및 정의
2) 기술개발 배경과 필요성
1-2. 국내외 관련 시장 동향
1) 시장 동향
(1) 시장 규모 및 성장률 예측
(2) 시장구조 및 경쟁현황
(3) 시장 성숙도
2) 시장 경쟁력 분석
(1) 사업화 소요기간 및 경제적 수명 예측
(2) 예상 시장 점유율 및 총매출액 예측
1-3. 과제와 전망
1) 과제
2) 전망
 
2. FPD용 다중투과 변조 포토마스크 동향
2-1. 개요
1) 개념 및 정의
2) 기술개발 배경과 필요성
2-2. 국내외 관련 시장 동향
1) 시장 동향
(1) 시장 규모 및 성장률 예측
(2) 시장구조 및 경쟁현황
2) 시장 경쟁력 분석
(1) 사업화 소요기간 및 경제적 수명 예측
(2) 예상 시장 점유율 및 총매출액 예측
2-3. 과제와 전망
1) 과제
2) 전망
 
3. 차세대 FPD용 Glass 기판․표면처리 기술 개발
3-1. 개요
1) 개념 및 정의
2) 기술개발 배경과 필요성
3-2. 국내외 관련 시장 동향
1) 시장 동향
(1) 시장 규모 및 성장률 예측
(2) 시장구조 및 경쟁현황
(3) 시장 성숙도
2) 시장 경쟁력 분석
(1) 사업화 소요기간 및 경제적 수명 예측
(2) 예상시장 점유율 및 총매출액 예측
3-3. 과제와 전망
1) 과제
2) 전망
 
4. 중대형 급속충전 이차전지용 고기능성 나노소재 개발
4-1. 개요
1) 개념 및 정의
2) 기술개발 배경과 필요성
4-2. 국내외 시장 동향
1) 시장 동향
(1) 시장 규모 및 성장률 전망
(2) 시장 구조 및 경쟁현황
(3) 시장 성숙도
2) 시장 경쟁력 분석
(1) 사업화 소요기간 및 경제적 수명 예측
(2) 예상시장 점유율 및 총 매출액 예측
4-3. 과제와 전망
1) 과제
2) 전망
 
5. High End Type EMC용 Epoxy Resin
5-1. 개요
1) 개념 및 정의
2) 기술개발 배경과 필요성
5-2. 국내외 시장 동향
1) 시장 동향
(1) 시장 규모 및 성장률 예측
(2) 시장구조 및 경쟁현황
(3) 시장 성숙도
(4) 사업화 소요기간 및 경제적 수명 예측
(5) 예상시장 점유율 및 총매출액 예측
5-3. 과제와 전망
1) 과제
2) 전망
 
6. 전자종이 (E-Paper)용 코팅 소재 동향
6-1. 개요
1) 개념 및 정의
2) 기술개발 배경과 필요성
6-2. 국내외 관련 시장 동향
1) 시장 동향
(1) 시장 규모 및 성장률 전망
(2) 시장구조 및 경쟁현황
(3) 시장 성숙도
2) 시장 경쟁력 분석
(1) 사업화 소요기간 및 경제적 수명 예측
(2) 예상시장 점유율 및 총매출액 예측
6-3. 과제와 전망
1) 과제
(1) 칼라화 기술
(2) 응답속도 향상 기술
(3) 신뢰성 향상 기술
2) 전망
 
7. LED 및 반도체 리드프레임용 동합금 동향
7-1. 개요
1) 개념 및 정의
(1) LED(Light Emitting Diode)
(2) 반도체(Semiconductor)
2) 지원 필요성
7-2. 국내외 관련 시장동향
1) 시장동향
(1) LED용 리드프레임 시장 동향
2) 반도체용 리드프레임 시장 동향
3) 시장구조 및 경쟁현황
(1) LED용 리드프레임
(2) 반도체용 리드프레임
(3) 시장 성숙도
4) 시장 경쟁력 분석
(1) 사업화 소요기간 및 경제적 수명 예측
(2) 예상시장 점유율 및 총매출액 예측
 
Ⅱ. 첨단 정보 전자재료 동향과 기술 전망
 
1. ArF급 포토레지스트 기술동향
1-1. 국내외 관련 기술 동향
1) 기술적 동향
(1) 반도체 제조공정에 사용되는 미세패턴 기술동향 개요
(2) ArF 광을 사용하는 미세패턴 기술동향
(3) 포토레지스트 재료 기술 동향
(4) ArF 광에 감응하는 포토레지스트 재료 기술 동향
(5) ArF 포토레지스트용 원재료 기술 동향
2) 기술 분석
(1) 기술적 중요도
(2) 기술적 시급성
(3) 기술적 파급효과
(4) 기술 성숙도
3) 기술수준 분석
(1) 특허관점에서의 기술수준
(2) 기술 수준 판단
1-2. 독창성 분석
1) 특허맵 분석
(1) 연도구간별 동향
(2) 출원인별 동향
2) 주요 출원인 연도구간별 특허동향
(1) IPC(국제특허분류)별 현황
3) 특허동향조사 분석
4) 지재권 확보 가능성
5) 특허회피 방법
6) 기술도입 가능성
 
2. FPD용 다중투과 변조 포토마스크 기술동향
2-1. 국내외 관련 기술 동향
1) 기술적 동향
(1) 평판 디스플레이용 마스크 기술 동향
2) 기술 분석
(1) 기술적 중요도
(2) 기술적 시급성
(3) 기술적 파급효과
(4) 기술 성숙도
3) 기술수준 분석
(1) 특허관점에서의 기술수준
(2) 기술 수준 판단
2-2. 독창성 분석
1) 특허맵 분석
(1) 연도구간별 동향
2) 특허동향조사 분석
3) 지재권 확보 가능성
4) 기술도입 가능성
 
3. 차세대 FPD용 Glass 기판․표면처리 기술동향
3-1. 국내외 관련 기술 동향
1) 기술적 동향
(1) 관련 기술명(국내)
(2) 관련 기술명(해외)
2) 기술 분석
(1) 기술적 중요도
(2) 기술적 시급성
(3) 기술적 파급효과
(4) 기술 성숙도
3) 기술수준 분석
(1) 특허관점에서의 기술수준
(2) 기술수준 판단
3-2. 독창성 분석
1) 특허맵 분석
2) 특허동향조사 분석
3) 지재권 확보 가능성
 
4. 중대형 급속충전 이차전지용 고기능성 나노소재 기술동향
4-1. 국내외 관련기술 동향
1) 기술적 동향
(1) 급속충전 리튬이차전지용 나노급 3차원 구조 산화물계 양극재 개발
(2) 급속충전 리튬이차전지 음극용 나노 금속산화물 개발
(3) 다공성소재 와 나노복합체로 구성된 분리막
(4) 급속충전 전지 시스템
2) 기술 분석
(1) 기술적 중요도
(2) 기술적 시급성
(3) 기술적 파급효과
(4) 기술 성숙도 및 TRL
3) 기술수준 분석
(1) 특허관점에서의 기술수준
(2) 중대형 급속충전 이차전지용 고기능성 나노소재 분야 기술수준 판단
4-2. 독창성 분석
1) 특허동향조사 결과
2) 지재권 확보 가능성
5. EMC용 Epoxy Resin 기술개발
5-1. 국내외 기술 동향
1) 기술적 동향
(1) 고기능성 Epoxy 설계 및 제조
(2) 난연성 Epoxy
(3) 고유동성 Epoxy
(4) 고 내열성 및 난연성 Epoxy 경화제
(5) 고순도형 수지 제조 관련 설비, 공정 기술
2) 기술 분석
(1) 기술적 중요도
(2) 기술적 시급성
(3) 기술적 파급효과
(4) 기술 성숙도 및 TRL
3) 기술수준 분석
(1) 특허관점에서의 기술수준
(2) 기술수준 판단
5-2. 독창성 분석
1) 특허맵 분석
(1) 연도구간별 동향
(2) 출원인별 동향
(3) IPC(국제특허분류)별 현황
2) 특허동향조사 분석
3) 지재권 확보 가능성
 
6. 전자종이 (E-Paper)용 코팅 소재 기술개발
6-1. 국내외 관련 기술 동향
1) 기술적 동향
(1) 칼라화 기술
(2) 응답 속도 향상 기술
(3) 신뢰성 향상
2) 기술 분석
(1) 기술적 중요도
(2) 기술적 시급성
(3) 기술적 파급효과
(4) 기술 성숙도 및 TRL
3) 기술수준 분석
(1) 특허관점에서의 기술수준
(2) 기술수준
6-2. 독창성 분석
1) 특허맵 분석
(1) 연도구간별 동향
(2) 출원인별 동향
(3) IPC(국제특허분류)별 현황
2) 특허동향조사 분석
 
7. LED 및 반도체 리드프레임용 동합금 기술 개발
7-1. 국내외 관련 기술 동향
1) 기술적 동향
(1) LED 리드프레임용 동합금
(2) 반도체용 리드프레임 동합금
2) 기술 분석
(1) 기술적 중요도
(2) 기술적 시급성
(3) 기술적 파급효과
(4) 기술 성숙도
3) 기술수준 분석
(1) 기술수준 판단
7-2. 독창성 분석
1) 특허맵 분석
가) 연도구간별 동향
(1) 국가(수리관청)별 특허동향
(2) 한국내 내외국인별 특허동향
(3) 연도별 특허 출원/등록 동향
나) 출원인별 동향
(1) 출원인 국적별 현황
(2) 주요 출원인 현황
(3) 주요 출원인 연도구간별 특허동향
다) IPC(국제특허분류)별 현황
2) 특허동향조사 결과
 
Ⅲ. 첨단 정보 전자 재료 기술개발 전략
 
1. ArF급 포토레지스트 기술개발
1-1. 연구목표 및 내용
1) 최종 목표 및 내용
(1) 최종 목표
(2) 확보기술 내용
2) 연도별 목표 및 내용
(1) 종합목표
(2) 연도별 목표
3) 기술 확보 전략
1-2. 추진체계 및 연구기간, 연구비
1) 추진체계
2) 연구기간
1-3. 연구개발 결과의 활용방안 및 기대효과
1) 연구개발 결과의 활용방안
2) 기대효과
(1) 기술적 기대 효과
(2) 경제적 기대효과
(3) 기타 기대효과
 
2. FPD용 다중투과 변조 포토마스크 기술개발
2-1. 연구목표 및 내용
1) 최종 목표 및 내용
(1) 최종 목표
(2) 확보기술 내용
2) 연도별 목표 및 내용
(1) 종합목표
(2) 연도별 목표
3) 기술 확보 전략
2-2. 추진체계 및 연구기간, 연구비
1) 추진체계
2) 연구기간
2-3. 연구개발결과의 활용방안 및 기대효과
1) 연구개발 결과의 활용방안
2) 기대효과
(1) 기술적 기대 효과
(2) 경제적 기대효과
(3) 전략적 효과
 
3. 차세대 FPD용 Glass 기판․표면처리 기술개발
3-1. 연구목표 및 내용
1) 최종 목표 및 내용
(1) 최종 목표
2) 연도별 목표 및 내용
(1) 종합목표
(2) 연도별 목표
3-2. 추진체계 및 연구기간, 연구비
1) 추진체계
2) 연구기간 및 연구비
3-3. 연구개발결과의 활용방안 및 기대효과
1) 연구개발 결과의 활용방안
2) 기대효과
(1) 기술적 기대효과
(2) 경제적 기대효과
(3) 기타 기대효과
 
4. 중대형 급속충전 이차전지용 고기능성 나노소재 기술개발
4-1. 연구목표 및 내용
가. 총괄과제발
1) 최종 목표 및 내용
(1) 최종 목표
2) 연도별 목표 및 내용
(1) 종합목표
(2) 연도별 목표
나. 세부1과제
1) 최종 목표 및 내용
(1) 최종 목표
(2) 확보기술 내용
2) 연도별 목표 및 내용
(1) 종합목표
(2) 연도별 목표
다. 세부 2 과제
1) 최종 목표 및 내용
(1) 최종 목표
(2) 확보기술 내용
2) 연도별 목표 및 내용
(1) 종합목표
(2) 연도별 목표
라. 세부 3 과제
1) 최종 목표 및 내용
(1) 최종 목표
(2) 확보기술 내용
2) 연도별 목표 및 내용
(1) 종합목표
(2) 연도별 목표
4-2. 추진체계 및 연구기간, 연구비
1)총괄과제
2) 세부1과제
3)세부 2 과제
4)세부 3 과제
4-3. 연구개발결과의 활용방안 및 기대효과
1) 연구개발 결과의 활용방안
2) 기대효과
(1) 기술적 기대효과
(2) 경제적 기대효과
(3) 기타 기대효과
 
5. EMC용 Epoxy Resin 기술개발
5-1. 연구목표 및 내용
1) 최종 목표 및 내용
(1) 최종목표
(2) 기술내용
2) 연도별 목표 및 내용
(1) 기술개발 종합목표
(2) 표준화 종합목표
(3) 연도별 목표
5-2. 추진체계 및 연구기간, 연구비
1) 추진체계
2) 기술확보 전략
3) 연구기간
5-3. 연구개발결과의 활용방안 및 기대효과
1) 연구개발 결과의 활용방안
2) 기대효과
(1) 기술적 기대효과
(2) 경제적 기대효과
(3) 기타 기대효과
 
6. 전자종이 (E-Paper)용 코팅 소재 기술개발
6-1. 연구목표 및 내용
1) 최종 목표 및 내용
(1) 최종 목표
(2) 확보기술 내용
2) 연도별 목표 및 내용
(1) 종합목표
(2) 연도별 목표
6-2. 추진체계 및 연구기간, 연구비
1) 추진체계
2) 연구기간
6-3. 연구개발결과의 활용방안 및 기대효과
1) 연구개발 결과의 활용방안
2) 기대효과
(1) 기술적 기대효과
(2) 경제적 기대효과
(3) 기타 기대효과
 
7. LED 및 반도체 리드프레임용 동합금 개발
7-1. 연구목표 및 내용
1) 최종 목표 및 내용
(1) 최종 목표
2) 연도별 목표 및 내용
(1) 종합목표
(2) 연도별 목표
7-2. 추진체계 및 연구기간, 연구비
1) 추진체계
2) 연구기간 및 연구비
7-3. 연구개발결과의 활용방안 및 기대효과
1) 연구개발 결과의 활용방안
2) 기대효과
(1) 기술적 기대효과
(2) 경제적 기대효과
(3) 기타 기대효과

 

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